钒(Ⅴ)、铝(Ⅲ)络合物的吸附伏安法研究

钒(Ⅴ)、铝(Ⅲ)络合物的吸附伏安法研究

王月宣[1]2003年在《钒(Ⅴ)、铝(Ⅲ)络合物的吸附伏安法研究》文中认为本文在查阅大量文献的基础上,以茜素S(ARS)作络合剂,研究了钒(Ⅴ)的两种高灵敏度的吸附(催化)伏安法,同时还研究了铝(Ⅲ)与茜素S络合物在碳糊电极上的吸附伏安行为。全文共分两章:第一章介绍了两种测定钒的吸附伏安法。第一部分:详细地研究了钒(Ⅴ)-茜素S-NaClO_3体系的吸附催化伏安行为。在pH5.3的六次甲基四胺-HCl缓冲溶液中,V(Ⅴ)-ARS-NaClO_3体系产生一灵敏的吸附平行催化波,峰电位在-0.68V(vs.Ag/AgCl)。峰电流与V(Ⅴ)浓度在2.0×10~(10)~1.0×10~(-6) mol.L~(-1)范围内呈良好的线性关系,检出限为1.0×10~(-10) mol.L~(-1)(富集60s)。初步探讨了电极反应机理,用等摩尔连续变化法测得V(Ⅴ):ARS为1:2。方法应用于水样中钒的测定,结果满意。第二部分:提出了在碳糊电极上测定钒的吸附伏安法。试验发现,在pH5.1的NH_4OAc-HOAc缓冲溶液中,V(Ⅴ)-ARS络合物在-0.52V(vs.SCE)产生一灵敏的吸附还原峰,峰高与钒的浓度在2.0×10~(-9)~1.0×10~(-7) mol.L~(-1)范围内呈线性关系,检出限为8×10~(-10) mol.L~(-1)(富集240s)。试验证明在碳糊电极上,该还原峰是由V(Ⅴ)-ARS络合物中配体ARS的还原产生的。方法用于水样中痕量钒的测定,结果满意。第二章报道了在碳糊电极上测定痕量铝的阴极溶出伏安法。在pH4.9的NH_4OAc-HOAc缓冲溶液中,铝(Ⅲ)-茜素S络合物在碳糊电极上产生一灵敏的吸附还原峰。峰电位E_p=-0.52V(vs.SCE)。峰高与铝的浓度在1.0 μ g/L~15.0 μ g/L范围内呈线性关系,检出限为0.8 μ g/L(富集120s)。讨论了电极反应机理,方法用于水样中痕量铝的测定,结果满意。总之,本文通过大量、系统地试验,建立了用吸附伏安法测定钒(Ⅴ)、铝(Ⅲ)的新体系,灵敏度高,选择性好,线性范围宽。颇有应用价值。

吴辛友, 童坚, 佟伶, 李满芝[2]2003年在《钼的分析进展》文中指出评述了近十年(1991-2002)钼的分析进展包括了化学分离和化学分析、分光光度分析、原子光谱分析、电化学分析等,引用文献167篇。

参考文献:

[1]. 钒(Ⅴ)、铝(Ⅲ)络合物的吸附伏安法研究[D]. 王月宣. 湘潭大学. 2003

[2]. 钼的分析进展[C]. 吴辛友, 童坚, 佟伶, 李满芝. 全国第八届稀有金属难熔金属分析学术会议论文集. 2003

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