罗志[1]2004年在《Fe-基氧化物的结构、磁性及M（？）ssbauer谱研究》文中指出本文通过X射线衍射、磁测量和Mssbauer谱等方法系统研究了Sr_2Fe_xMo_(2-x)O_6(1.0≤x≤1.5)和LiFePO_4两个系列氧化物的结构、磁性及超精细相互作用，主要内容和研究结果如下： 在Sr_2Fe_xMo_(2-x)O_6(1.0≤x≤1.5)体系中Fe含量对化合物的结构、磁性和超精细相互作用等特性有着重要的影响，具体表现在：1)随着Fe含量x的增加，晶体结构在x=1.2附近发生从空间群为I4／mmm的四方结构到空间群为Fmm的立方结构的转变，通过对Fe-Mo离子有序度实验值和理论上可能的最大值之间的比较，证实该系统中Fe-Mo离子有存在一定反位缺陷的趋势；2)居里温度Tc随着Fe含量x的增加而上升，在发生由于自掺杂而引起的结构相变时，化合物的热磁曲线呈现出与结构相变发生前截然不同的变化趋势，而磁化强度与Fe-Mo离子有序度成近似线性关系；3)伴随着Fe含量增加在Sr_2Fe_xMo_(2-x)O_6中Fe的化合价上升，且随着温度上升在Sr_2FeMoO_6中存在Fe的价态涨落现象。 对LiFePO_4化合物的X射线衍射数据分析的结果给出，该化合物具有橄榄石型结构，空间群为Pnma，晶胞参数为：a=10.31982(23)，b=6.00275(14)，c=4.69066(11)。该化合物X射线衍射数据的Rietveld精修结果显示，在具有正交Pnma结构的化合物LiFePO_4中，处在畸变的氧八面体中的Fe离子受到不对称晶场的作用，磁测量结果表明，LiFePO_4在50K左右发生顺磁-反铁磁转变，且磁化率的倒数遵循Curie-Weiss定律，从磁化率倒数拟合的结果得出C=257.0(24)emu K／g，0=-103.7(21)K。对Mssbauer谱进行分析的结果给出，当温度接近50K时超精细磁场迅速减小，并且已有部分的LiFePO_4变为顺磁相，在温度为60K时超精细场变为零，由此也可以得出，顺磁-反铁磁转变点在50 K左右。
梁锐生[2]2004年在《纳米复合磁性薄膜的制备、结构及性能研究》文中研究指明磁性材料的巨磁电阻(GMR)和巨磁阻抗(GMI)效应在磁测量和磁记录领域具有广阔的应用前景。纳米晶软磁材料因其优异的磁性能和灵敏度而受到关注。本文介绍了利用磁控溅射制备纳米晶软磁薄膜的方法、原理和工艺，同时应用XRD及Mssbauer谱等测试方法对纳米晶软磁薄膜的结构进行表征。主要结果如下： (1)利用射频磁控溅射制备了Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜，研究了射频溅射功率对薄膜结构和性能的影响。其结果表明：在较低溅射功率密度下，薄膜为无定型结构；随着溅射功率密度升高，沉积薄膜无需热处理，便呈现出晶态和非晶态的混合相结构，晶态为纳米级的α-Fe(Si)和α-Fe(B)固溶体。随着溅射功率的提高，非晶相的体积分数逐渐减少，α-Fe(Si)相和α-Fe(B)相的体积分数逐渐提高。α-Fe(B)中B原子的占位几率也随溅射功率的上升而增加，导致α-Fe(B)相超精细场随之下降：50、100、150和200W所对应的超精细场分别为235KOe、229KOe、223KOe和218KOe。 (2)薄膜的磁矩取向与溅射功率有关。磁矩取向与膜表面法向间的夹角随着功率的上升变小，当溅射功率较小时，磁矩主要平行于膜面，随着溅射功率升高，磁矩取向与膜面法向间的夹角逐渐减少。 (3)通过异向磁化研究了磁矩取向对薄膜宏观磁性的影响，结果表明：其剩磁比随着磁矩取向与磁化方向间的夹角变小而升高。这说明薄膜样品的磁性能与晶粒的各向异性密切相关。 (4)溅射功率为400W时，制备得到的薄膜样品为富Si的Si(Fe)与富Fe的Fe(Si)纳米晶的复合镶嵌结构。由于Si基固溶体的析出，存在着钉扎效应，同时具有软磁特性的α-Fe(Si)固溶体纳米晶在样品中所占的比例减少，从而导致样品的磁性能的变化。 (5)利用射频磁控溅射与直流磁控溅射交叉沉积制备得到的NiFe／Ge多层膜，通过XRD、Mssbauer谱及VSM分析表明：得到的样品(a)为NiFe基及Fe基固溶体纳米晶与非晶态基体的复合镶嵌结构，所表现出软磁性能；而当得到样品(b)中存在Fe、Ni、Ge叁种单质纳米晶，并有NiFe、FeGe、FeGeNi等合金纳米晶相时，则形成多种纳米晶与非晶的复合镶嵌结构，部分晶粒为顺磁性，NiFe、FeGeNi等为软磁性，并有硬磁相析出，矫顽力和Hsat(～2200e)相应提高。说明硬磁相与软磁相之间存在交换耦合作用和钉扎作用，引起了薄膜的退磁机制和磁化机制的不一致。
方允樟, 吴锋民, 吴文慧, 郑金菊, 杨晓红[3]2004年在《Fe基合金纳米晶薄带介观结构的AFM研究》文中研究说明利用AFM观察了Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9薄带断口的介观结构, 发现退火后晶化的薄带的贴辊面区与自由面区之间存在明显的介观结构差异, 观察到Fe基纳米晶薄带贴辊面区的纵向粗晶粒团聚优势和自由面区的横向细晶粒团聚优势, 认为这是由于单辊快淬法制备非晶薄带时残存的内应力差异所致.
参考文献：
[1]. Fe-基氧化物的结构、磁性及M（？）ssbauer谱研究[D]. 罗志. 汕头大学. 2004
[2]. 纳米复合磁性薄膜的制备、结构及性能研究[D]. 梁锐生. 汕头大学. 2004
[3]. Fe基合金纳米晶薄带介观结构的AFM研究[J]. 方允樟, 吴锋民, 吴文慧, 郑金菊, 杨晓红. 科学通报. 2004