磁控溅射论文

  • 仿生技术在纺织中的应用

    仿生技术在纺织中的应用

    一、仿生技术在纺织上的应用(论文文献综述)颜辛茹,朱颖,杨亚[1](2021)在《仿生学在纺织服装领域的应用》文中研究表明仿生学在各个学科中都有广泛的应用,文章主要探讨了仿生学...
  • 《真空与低温》杂志 2004 年总目录

    《真空与低温》杂志 2004 年总目录

    一、《真空与低温》杂志2004年总目次(论文文献综述)刘强[1](2006)在《对热真空环模试验设备设计中有关问题的讨论》文中研究指明热真空环模试验设备是专项设备,应用面相对比...
  • 退火温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜的影响论文_李恩成

    退火温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜的影响论文_李恩成

    (大连东软信息学院)摘要:采用X射线衍射分析(XRD)测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能。薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理。...
  • 工作气压对射频磁控溅射HfO2薄膜工艺影响的研究论文_刘汉伟

    工作气压对射频磁控溅射HfO2薄膜工艺影响的研究论文_刘汉伟

    (大连东软信息学院)摘要:二氧化铪可以用来作为取代传统二氧化硅的一种很好的高介电常数。由于然而,在制备薄膜方法中,氧化铪层的结构和性质强烈依赖于沉积条件和后退火处理的技术。本文...
  • 衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜的影响论文_王开平

    衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜的影响论文_王开平

    (大连东软信息学院)摘要:采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明...
  • 国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势论文_崔新礼

    国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势论文_崔新礼

    崔新礼中国南玻集团股份有限公司摘要:目前,国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围,促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术,但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不...
  • 磁控溅射靶磁场的模拟优化设计论文_崔新礼

    磁控溅射靶磁场的模拟优化设计论文_崔新礼

    中国南玻集团股份有限公司摘要:本文基于磁控溅射的磁场分布水平和磁场强度在镀膜性能与质量上影响与价值分析,结合磁控靶材的结构及其磁场的计算方法和步骤的探讨,以及利用ANSYS软件...
  • 试析三银Low-E镀膜玻璃论文_黄颖

    试析三银Low-E镀膜玻璃论文_黄颖

    东莞南玻工程玻璃有限公司广东东莞523000摘要:本文从三银镀膜特性、生产工艺流程、使用性能等方进行了介绍,新形势下的建筑节能需要从新型材料的角度出发,应用新材料的重要性不言而...
  • 磁控溅射镀膜技术的发展及应用分析论文_梁瑞记

    磁控溅射镀膜技术的发展及应用分析论文_梁瑞记

    东莞南玻工程玻璃有限公司广东东莞523000[摘要]本文综合分析了当前磁控溅射的镀膜技术发展情况,并对该项镀膜技术实践应用,进行了有效性地研究,以能够全面了解与掌握磁控溅射的镀...
  • 硅基薄膜中金属颗粒对发光特性的影响

    硅基薄膜中金属颗粒对发光特性的影响

    吴雪梅[1]2002年在《金属和半导体颗粒复合硅基薄膜的结构及发光特性的研究》文中认为光电子信息材料是本世纪最受关注的材料之一,光电子集成器件在信息时代有极其重要的作用。由于硅的平面集成工艺已相当成熟,所以从工艺兼容性考虑,用硅基材料作为发光器件将是最佳的选择,而其获得应用的关键是提高发光效率。我们...
  • 离子束溅射法制备C-N薄膜的研究

    离子束溅射法制备C-N薄膜的研究

    柳翠[1]2001年在《离子束溅射法制备C-N薄膜的研究》文中提出本文对离子源的溅射特性进行了研究,采用离子束溅射法制备了TiN_y单层薄膜和CN_x/TiN_y多层薄膜,探索该法制备CN_x薄膜的最佳工艺参数,并利用TiN_y薄膜为衬底以促进CN_x薄膜的生长。溅射特性研究结果表明:屏极电压和溅射...
  • 氧化钒薄膜的制备及特性研究

    氧化钒薄膜的制备及特性研究

    王蒙[1]2016年在《石墨烯—氧化钒复合敏感材料的制备与特性研究》文中进行了进一步梳理红外探测技术具有广阔的应用前景,越来越引起各国的关注。但是,我国的非制冷红外探测器的研究进展缓慢,关键部件主要依赖进口,阻碍了红外探测器在各领域的应用普及。高质量的红外敏感材料是红外探测器发展的关键因素。因此,研...
  • 微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术及CN薄膜的制备研究

    微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术及CN薄膜的制备研究

    徐军[1]2002年在《微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术及CN薄膜的制备研究》文中研究指明本文的研究内容分两大部分:第一部分研究了一种新型的薄膜制备技术,即双放电腔微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射;第二部分为利用该技术制备CNx薄膜的研究。双放电腔微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅...
  • 薄膜电感的制备研究

    薄膜电感的制备研究

    陈赵豪[1]2015年在《基于闭合磁路的框式薄膜电感的制备与性能研究》文中研究指明随着电子技术的快速发展,对电路系统的集成度要求也越来越高,作为叁大无源器件之一的电感器,必然要向着小型化,高频化的趋势发展,研究重点集中于提高电感量。本文从减少漏磁的角度出发,设计出磁芯磁路闭合的特殊磁芯电感,以及用于...
  • ZnO薄膜和ZnO紫外探测器

    ZnO薄膜和ZnO紫外探测器

    陈汉鸿[1]2002年在《ZnO薄膜和ZnO紫外探测器》文中研究说明ZnO是一种多用途的材料。传统上,ZnO薄膜被广泛应用于声表面波器件,体声波器件、气敏传感器、压敏电阻、透明导电电极等。近年来,ZnO作为宽带半导体材料的的研究越来越受到们的重视。ZnO薄膜的生长温度一般低于700℃,比GaN(生长...
  • 金属和半导体颗粒复合硅基薄膜的结构及发光特性的研究

    金属和半导体颗粒复合硅基薄膜的结构及发光特性的研究

    吴雪梅[1]2002年在《金属和半导体颗粒复合硅基薄膜的结构及发光特性的研究》文中进行了进一步梳理光电子信息材料是本世纪最受关注的材料之一,光电子集成器件在信息时代有极其重要的作用。由于硅的平面集成工艺已相当成熟,所以从工艺兼容性考虑,用硅基材料作为发光器件将是最佳的选择,而其获得应用的关键是提高发...
  • 工艺参数对氮化硼薄膜结构相的影响

    工艺参数对氮化硼薄膜结构相的影响

    王旭天[1]2017年在《氮化硼/石墨烯复合薄膜的制备及表征》文中研究表明石墨烯具有极高的载流子迁移率,优异的热导率以及极高的机械强度,这些优点使石墨烯在电子器件方面的应用有着极大的潜力和研究价值。六方氮化硼薄膜为衬底的石墨烯具有远高于硅片上面的载流子迁移率以及氮化硼薄膜本身的热稳定性和深紫外吸收性...
  • 钛及钛合金的表面烤瓷基础研究

    钛及钛合金的表面烤瓷基础研究

    段珍珍[1]2009年在《纯钛烤瓷及钛表面改性对钛/瓷结合强度的影响》文中提出本文针对制约钛烤瓷修复体应用的关键技术问题,对纯钛烤瓷及钛表面改性对钛/瓷结合强度的影响进行了系统的研究。研究结果表明,钛/瓷界面由靠近陶瓷一侧的反应层和钛表面氧化层组成,钛表面氧化层的形成,使钛/瓷界面处形成新的烤瓷玻璃...
  • SiC薄膜的溅射法制备与结构性能研究

    SiC薄膜的溅射法制备与结构性能研究

    谭利文[1]2000年在《SiC薄膜的溅射法制备与结构性能研究》文中研究指明本文采用偏压辅助射频溅射法,在单晶Si、石英和不锈钢衬底上沉积SiC薄膜,在衬底没有附加热源加热的条件下,成功地制备出具有(111)择优取向的微晶SiC薄膜,并研究了主要的工艺参数对SiC薄膜生长特性的影响。实验结果表明,在...