光刻论文

摘要：陡直度与很多因素有关，如介质的材料、光刻胶的种类以及工艺参数等。在本文中，实验环境固定在硅介质表面，采用罗门哈斯公司生产的LC100A型光刻胶，在已有成熟工艺的基础上，实...

【摘要】曲面光栅受自身的性质影响，主要体现为透镜与平面光栅器件，通过曲面光栅的取代，可以有效的降低透镜的数量，实现对光路的简化，并提升器件的集成度，在保证系统稳定性的基础上降低...

(合肥京东方光电科技有限公司安徽合肥230012)摘要：研究了光刻机曝光过程中，热效应引起焦平面发生漂移的原因，并对热效应过程进行分析，通过光照时间与冷却时间的关系对应焦平面漂...

中国电子系统工程第二建设有限公司江苏无锡214072摘要：以0.25微米6英寸MOSFET芯片前工序加工和芯片封装的减薄、划片工序为背景，介绍集成电路的生产工艺及公用工程特点，...

蒋利锋徐建，张强，刘放，刘豪中电科技重庆声光电有限公司400060【摘要】主轴电机系统的旋转速度影响着涂胶显影工艺，因此本文主要对其主轴电机系统的工作原理进行了剖析，并研究了主...

滨城区滨化集团股份有限公司山东滨州256600摘要：电子技术是信息化的核心，它的广泛应用正深刻地影响着人们的观念、生活方式、工作方式乃至整个产业结构，电子技术是促进经济高速增长...

（无锡中微掩模电子有限公司江苏无锡214035）摘要：针对集成电路掩模的制作过程中各种缺陷产生的种类及来源进行了基本的系统分析,提出了一些减少或消除这些缺陷的办法和措施。关键词...

（西安卫光科技有限公司西安微晶微电子有限公司陕西省西安市710077）摘要：此前，公司钝化层使用的光刻胶AZ6130为进口光刻胶，采购周期长且成本较高。为了缩短采购周期同时降低...

(江苏通环环保有限公司江苏214200)摘要：集成电路产业是一个国家的命脉，与社会的发展、国家的安全有着极为密切的关系。就我国目前的IC制造技术来看，与国外先进技术尚且存在一定...

鸿纳（东莞）新材料科技有限公司广东东莞523000摘要：在长时间的发展过程中，我国已形成了较为完善的化工新材料研制开发、设计生产、实践应用产业体系。现阶段我国化工新材料产业主要...

(天津环鑫科技发展有限公司300384)摘要：本文集中关注于半导体制造工艺步骤中的显影步骤，详细分析该步骤中最长发生的异常现象，气泡（本文所说的气泡是指显影工序完成后，显影区域...

（福建省晋华集成电路有限公司福建省362200）摘要：在半导体集成电路生产时，其过程非常复杂，我们在生产时可以通过生产晶圆、光刻、离子注入沉积等步骤，同时本文探讨与分析了其测试...

东莞南玻光伏科技有限公司广东东莞523000摘要：本文主要从电子束的光刻系统、2ZEP520A正性的抗蚀剂基本工艺条件这两个方面入手，分析了电子束的光刻技术。同时，从ICP刻蚀...